功率半导体的功能主要是对电能进行转换，对电路进行控制，改变电子装置中的电压和频率，直流或交流等，具有处理高电压，大电流的能力。 在过去相当长的一段时间里，功率半导体市场一直由欧、美、日等外资巨头牢牢占据着主导地位，随着近年来新能源汽车的发展，许多本土企业也纷纷入局。放眼市场，不论是传统Si功率器件IGBT、MOSFET，还是以SiC、GaN等为代表的第三代半导体，国内都有企业布局。 01 …
查看详情 什么是TSV?TSV是硅通孔的简写，利用通孔进行垂直的电连接，贯穿WAFER或芯片。一般来讲这种技术被一些类似台积电，联电和格芯等全球代工厂代工厂制造的。TSV可以替代引线键合和倒装焊技术。 TSV用于2.5 d和3 d封装，用于电连接。根据TSV被制作的时间顺序有3种类型的TSV，分别指在晶圆制作工艺中的前，中或后段。第一个在晶圆制作工艺前段，意味着TSV在FEOL段前加工而成。因此工…
查看详情 点胶和底部填充的路径与模式基本要求 在设计点胶路径时，不仅要考虑点胶效率和填充流动形态，为了在BGA及类似器件的边缘良好成型，还要认真考虑器件边缘溢胶区域限制。日前的电子产品，由于其高密度组装特点，其溢胶区域通常受到限制。某些特定区域溢胶甚至不能超过器件边沿的0.1mm，较普遍的是小于0.2mm，见图7A和7B;同时限制区域外的胶痕厚度不能高过PCB表面20um。由此可见，对于手持式产品的高…
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此类气泡一般较少并且有规律(1-2pcs左右，基本在同一位置)。 产生此类气泡主要有以下几方面的原因： 1.点胶机速度过快。点胶速度过快是万恶之源。 2.点胶针头位置不合理 or 针头毛刺现象严重。位置不合理包括预设针头初始位置不合理、针头高度不合理、点胶过程中机器 or 夹具偏差 or 支架起伏 or 作业员未按要求统一放置支架所带来的针头偏离合理位置等。 3.支架吸湿 or 表…
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包括SiC在内的第三代半导体产业链包括包括衬底→外延→设计→制造→封装。其中，衬底是所有半导体芯片的底层材料，起到物理支撑、导热、导电等作用;外延是在衬底材料上生长出新的半导体晶层，这些外延层是制造半导体芯片的重要原料，影响器件的基本性能;设计包括器件设计和集成电路设计，其中器件设计包括半导体器件的结构、材料，与外延相关性很大;制造需要通过光刻、薄膜沉积、刻蚀等复杂工艺流程在外延片上制作出设计…
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1月28日，在广东省高质量发展大会上，华润微电子有限公司总裁李虹、粤芯半导体总裁陈卫分别对外公布了最新项目动态，立下“军令状”。 华润微深圳建设的12英寸特色工艺集成电路生产线一期总投资额超220亿元，争取2024年年底实现通线投产!粤芯半导体，加快三期项目建设，争取2023年年底设备搬入、明年投产! 1、新进展!华润微深圳：12英寸集成电路生产线项目：2024年年底实现通线投产! 1月…
查看详情 引线元件通孔插装(THT)与表面贴装(SMT)共存的贴插混装工艺，是当前电子产品生产中采用最普遍的一种组装方式。在整个生产工艺流程中，印刷电路板(PCB)其中一面元件从开始进行点胶固化后，到了最后才能进行波峰焊焊接，这期间间隔时间较长，而且进行其他工艺较多，元件的固化就显得尤为重要，因而对于点胶工艺的研究分析有着重要意义。 SMT贴片加工胶水及其技术要求 SMT中使用的胶水主要用于片式元件…
查看详情 流体点胶是一种以受控的方式对流体进行精确分配的过程，它是微电子封装行业的关键技术之一。目前，点胶技术逐渐由接触式点胶向无接触式(喷射)点胶技术转变。本文从微电子封装过程的应用出发，对点胶技术的发展进行了概述;在对比各种点胶方式的同时，重点介绍了无接触式喷射点胶技术，以及其中所涉及的关键技术，并提出了评价点胶品质的标准。 流体点胶技术是微电子封装中的一项关键技术，它可以构造形成点、线、面(涂敷…
查看详情 智能时代，芯片在我们的生活中无所不在，一颗芯片的诞生，需要经过晶圆制造和芯片成品制造两大阶段。 晶圆制造过程非常复杂，需要经历曝光、蚀刻、离子注入、金属填充、研磨等一系列步骤后，晶圆上的集成电路才能最终成型。 然而晶圆本身是“脆弱”且“封闭”的，无法直接使用，只有经过封装和测试流程，才能最终生产出独立、连通、可靠的芯片成品。 那么，芯片究竟是怎样被封装的呢? 我们首先介绍一种技术成熟、…
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